설명
GE 제조 표준 및 가공 기술은 1980년대부터 RUNAU Electronics에 도입되어 사용되었습니다.완전한 제조 및 테스트 조건은 미국 시장 요구 사항과 완전히 일치했습니다.중국 사이리스터 제조의 선구자로서 RUNAU Electronics는 미국, 유럽 국가 및 글로벌 사용자에게 국가 전력 전자 장치의 기술을 제공했습니다.클라이언트가 높은 자격을 갖추고 평가했으며 파트너를 위해 더 큰 승리와 가치가 창출되었습니다.
소개:
1. 칩
RUNAU Electronics에서 제조한 사이리스터 칩은 소결 합금 기술을 사용합니다.실리콘 및 몰리브덴 웨이퍼는 고진공 및 고온 환경에서 순수 알루미늄(99.999%)에 의한 합금화를 위해 소결되었습니다.소결 특성의 관리는 사이리스터의 품질에 영향을 미치는 핵심 요소입니다.RUNAU Electronics의 노하우는 합금 접합 깊이, 표면 평탄도, 합금 캐비티뿐만 아니라 전체 확산 기술, 링 서클 패턴, 특수 게이트 구조를 관리합니다.또한 소자의 캐리어 수명을 줄이기 위해 특수한 처리를 하여 내부 캐리어 재결합 속도를 크게 높이고 소자의 역회복 전하를 줄여 결과적으로 스위칭 속도를 향상시켰습니다.이러한 측정은 빠른 스위칭 특성, 온 상태 특성 및 서지 전류 특성을 최적화하기 위해 적용되었습니다.사이리스터의 성능 및 전도 작동은 안정적이고 효율적입니다.
2. 캡슐화
몰리브덴 웨이퍼와 외부 패키지의 평탄도와 평행도를 엄격히 제어함으로써 칩과 몰리브덴 웨이퍼는 외부 패키지와 견고하고 완벽하게 통합됩니다.이는 서지 전류 및 높은 단락 전류의 저항을 최적화합니다.전자 증발 측정 기술을 사용하여 실리콘 웨이퍼 표면에 두꺼운 알루미늄 필름을 만들고 몰리브덴 표면에 도금된 루테늄 층은 열 피로 저항을 크게 향상시켜 고속 스위치 사이리스터의 작업 수명을 크게 늘릴 것입니다.
기술 사양
매개변수:
유형 | I티(AV) A | TC ℃ | VDRM/VRRM V | ITSM @T브짐&10ms A | I2t A2s | VTM @IT&티J=25℃ 브이 / 에이 | tq μs | Tjm ℃ | Rjc ℃/W | RCS ℃/W | F KN | m Kg | 암호 | |
최대 1600V의 전압 | ||||||||||||||
YC476 | 380 | 55 | 1200~1600 | 5320 | 1.4x105 | 2.90 | 1500 | 30 | 125 | 0.054 | 0.010 | 10 | 0.08 | T2A |
YC448 | 700 | 55 | 1200~1600 | 8400 | 3.5x105 | 2.90 | 2000년 | 35 | 125 | 0.039 | 0.008 | 15 | 0.26 | T5C |
최대 2000V의 전압 | ||||||||||||||
YC712 | 1000 | 55 | 1600~2000 | 14000 | 9.8x105 | 2.20 | 3000 | 55 | 125 | 0.022 | 0.005 | 25 | 0.46 | T8C |
YC770 | 2619 | 55 | 1600~2000 | 31400 | 4.9x106 | 1.55 | 2000년 | 70 | 125 | 0.011 | 0.003 | 35 | 1.5 | T13D |